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半導體液冷器Chiller FPD制造裝置制冷機

簡要描述:【無錫冠亞】半導體控溫解決方案主要產(chǎn)品包括半導體專?溫控設備、射流式?低溫沖擊測試機和半導體??藝廢?處理裝置等?設備,?泛應?于半導體、LED、LCD、太陽能光伏等領域。半導體液冷器Chiller FPD制造裝置制冷機

  • 產(chǎn)品型號:LTS-202
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2025-01-16
  • 訪  問  量:1266
詳情介紹
品牌冠亞制冷冷卻方式水冷式
價格區(qū)間10萬-50萬產(chǎn)地類別國產(chǎn)
儀器種類一體式應用領域化工,生物產(chǎn)業(yè),電子/電池,制藥/生物制藥,汽車及零部件



無錫冠亞恒溫制冷技術有限公司的半導體控溫解決方案

主要產(chǎn)品包括半導體專?溫控設備、射流式?低溫沖擊測試機和半導體??藝廢?處理裝置等?設備,

?泛應?于半導體、LED、LCD、太陽能光伏等領域。




【 冠亞制冷 】半導體行業(yè)主營控溫產(chǎn)品:

半導體專溫控設備

射流式?低溫沖擊測試機

半導體專用溫控設備chiller

Chiller氣體降溫控溫系統(tǒng)

Chiller直冷型

循環(huán)風控溫裝置

半導體?低溫測試設備

電?設備?溫低溫恒溫測試冷熱源

射流式高低溫沖擊測試機

快速溫變控溫卡盤

數(shù)據(jù)中心液冷解決方案


型號FLT-002FLT-003FLT-004FLT-006FLT-008FLT-010FLT-015
FLT-002WFLT-003WFLT-004WFLT-006WFLT-008WFLT-010WFLT-015W
溫度范圍5℃~40℃
控溫精度±0.1℃
流量控制  10~25L/min  5bar max15~45L/min  6bar max25~75L/min  6bar max
制冷量at10℃6kw8kw10kw15 kw20kw25kw40kw
內(nèi)循環(huán)液容積4L5L6L8L10L12L20L
膨脹罐容積10L10L15L15L20L25L35L
制冷劑R410A
載冷劑硅油、氟化液、乙二醇水溶液、DI等  (DI溫度需要控制10℃以上)
進出接口ZG1/2ZG1/2ZG3/4ZG3/4ZG3/4ZG1ZG1
冷卻水口ZG1/2ZG1/2ZG3/4ZG1ZG1ZG1ZG1 1/8
冷卻水流量at20℃1.5m3/h2m3/h2.5m3/h4m3/h4.5m3/h5.6m3/h9m3/h
電源380V3.5kW4kW5.5kW7kW9.5kW12kW16kW
溫度擴展通過增加電加熱器,擴展-25℃~80℃





半導體液冷器Chiller FPD制造裝置制冷機

半導體液冷器Chiller FPD制造裝置制冷機


  隨著科技的飛速發(fā)展,在這個微電子器件行業(yè)中,高精度、高穩(wěn)定性的電子設備是必要的。而為了確保這些設備的正常運行,一個關鍵的設備——頂層介質(zhì)刻蝕單通道chiller,也扮演著一定的角色。

  頂層介質(zhì)刻蝕單通道頂層介質(zhì)刻蝕單通道chiller是一種用于冷卻電子設備的設備,它通過降低設備的溫度,保證其穩(wěn)定運行,延長其使用壽命。在微電子器件行業(yè)中,頂層介質(zhì)刻蝕單通道chiller的應用范圍非常廣泛,從大型計算機服務器到小型移動設備,都需要用到它。

  在微電子器件行業(yè)中,頂層介質(zhì)刻蝕單通道chiller的作用不僅僅局限于冷卻設備。它還可以通過控制設備的溫度,提高設備的性能和穩(wěn)定性。例如,在一些高精度的電子設備中,溫度的變化可能會對設備的性能產(chǎn)生影響。而通過使用頂層介質(zhì)刻蝕單通道chiller,可以確保設備的溫度始終保持在適合狀態(tài),從而提高設備的性能和穩(wěn)定性。

  除此之外,頂層介質(zhì)刻蝕單通道chiller還可以通過提高設備的散熱效率,減少設備的故障率。在一些高溫環(huán)境下,如果電子設備無法及時散熱,就可能會導致設備過熱、損壞。而通過使用頂層介質(zhì)刻蝕單通道chiller,可以確保設備的散熱效率得到提高,從而減少設備的故障率。

  在微電子器件行業(yè)中,頂層介質(zhì)刻蝕單通道chiller的選擇和使用也是非常重要的。要根據(jù)設備的具體需求選擇合適的頂層介質(zhì)刻蝕單通道chiller。其次,在使用過程中,要定期對頂層介質(zhì)刻蝕單通道chiller進行檢查和維護,確保其正常運行。


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